Etsning (kemi)

Etstankar vid LAAS-CNRS i Toulouse.
En integrerad krets med halvledarkomponenter tillverkade genom etsning.
Etsning i glas, ca 1890.

Etsning är en kemisk process där metall eller glas löses upp med stark syra eller annat frätande ämne. Metoden används för tillverkning av kretskort, halvledarkomponenter, delar till modellbygge, för dekoration av glas och metall och för att skapa tryckplåtar bland annat för grafisk konst. Genom att använda masker för att skydda de delar som inte ska etsas bort kan man åstadkomma avancerade mönster.

Historia

Etsning började användas redan under medeltiden för att dekorera rustningar. Den tyske konstnären Daniel Hopfer var den första som använde etsning för att tillverka tryckplåtar.

Processen

  1. Vid behov avlägsnas inre spänningar genom att materialet värms upp och sedan får svalna långsamt.
  2. Ytan rengörs noggrant för att masken ska fästa ordentligt.
  3. Masken appliceras på ytan. För grövre mönster används tejp eller lack. För finare mönster används fotoresist.
    • Om fotoresist används så exponeras och framkallas den först för att producera mönstret.
  4. Föremålet doppas ner i etsbadet. Hur länge föremålet ska etsas beror på lösningens styrka och temperatur.
  5. Det färdigetsade föremålet tas upp ur badet och sköljs rent
  6. Masken avlägsnas.

Etsmedel

MaterialEtsmedel
AluminiumNatriumhydroxid
StålSaltsyra eller salpetersyra
Rostfritt stålJärntriklorid
GjutjärnNital (en blandning av salpetersyra och alkohol)
KopparKoppardiklorid, järntriklorid, ammonium- eller natriumpersulfat.
Kiseldioxid (glas)Fluorvätesyra eller ammoniumbifluorid

I de flesta fall blir restprodukten ett vattenlösligt salt, men när man etsar glas med ren fluorvätesyra bildas fluorider som inte är vattenlösliga. Fluoriderna bildar en matt, mjölkvit hinna över glaset och skyddar det från vidare angrepp. Om fluorvätesyran är tillverkad in situ innehåller den även svavelsyra som kan lösa upp fluoriderna. Man kan därmed etsa djupare mönster och den färdiga ytan blir klar och genomskinlig.

Källor


Den här artikeln är helt eller delvis baserad på material från engelskspråkiga Wikipedia, Industrial etching, 20 februari 2011.

Media som används på denna webbplats

Etching tanks at LAAS 0466.jpg
Författare/Upphovsman: Guillaume Paumier (user:guillom), Licens: CC BY-SA 3.0
Chromium and gold etching tanks at LAAS-CNRS technological facility in Toulouse, France.
Siliconchip by shapeshifter.png
(c) David Carronengelska Wikipedia, CC BY-SA 3.0
Detail of a standard cell, extracted and rendered by koala. I am the creator of the tool used to render this image, and also the author of the image. Similar, but copyrighted images may be found at http://shapeshifter.free.fr
Etched in Ferric Chloride at Home.jpg
Författare/Upphovsman: Adam Greig from Weybridge, UK, Licens: CC BY-SA 2.0
Printed circuit board etched in Ferric Chloride