Bosch process sidewall
Författare/Upphovsman:
Kreditera:
Eget arbete
Kort länk:
Källa:
Upplösning:
712 x 484 Pixel (207360 Bytes)
Beskrivning:
Scanning electron micrograph of the undulating sidewall of a silicon structure fabricated using photolithography and deep reactive-ion etching (Bosch process)
Licens:
Public domain
Mer information om licensen för bilden finns här. Senaste uppdateringen: Sun, 15 Jan 2023 15:50:35 GMT